制作流程(以化学蚀刻为例)
1. 材料准备
基板选择:
高频应用:Rogers RO4003C/RT5880(低损耗)
常规应用:FR4环氧树脂板
柔性天线:聚酰亚胺(PI)或PET薄膜
金属覆层:
标准厚度:18μm/35μm电解铜箔
特殊需求:可选用压延铜(柔性更好)
2. 基板预处理
切割至设计尺寸(含5%工艺边)
清洗流程:
碱性除油(50℃ NaOH溶液,3-5分钟)
酸洗(10%稀硫酸,30秒)
微蚀(Na2S2O8溶液,铜面粗化0.5-1μm)
3. 图形转移
光刻法(常用):
涂覆光刻胶:负胶(如SU-8)或干膜(厚度15-25μm)
预烘:80℃/20分钟(热板)
曝光:UV光(365nm,能量300-400mJ/cm²)通过光掩模
显影:1% Na2CO3溶液(40℃喷淋,60秒)
直接打印法(小批量):
使用抗蚀刻油墨打印机(zui小线宽可达50μm)
4. 蚀刻工艺
参数 化学蚀刻 激光蚀刻
精度 ±15μm ±5μm
适用线宽 >100μm 20-100μm
典型速度 1-2μm/s 10-20mm²/s
设备成本 低(¥5-10万) 高(¥50万以上)
化学蚀刻配方:
三氯化铁(FeCl3):浓度28-42Be',温度40±2℃
蚀刻速率控制:1.5μm/min(需实时监测铜离子浓度)
5. 后处理
去膜:5% NaOH溶液(60℃,喷淋脱膜)
表面处理:
抗氧化:OSP或化学镀镍金(ENIG)
增强焊接:热风整平(HASL)
清洗:DI水(电阻率>15MΩ·cm)超声清洗
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